삼성전자·ASML '반도체 동맹' 강화…12인치 마스크 공동 개발

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박혜연 기자

phy@datanews.co.kr | 2026.09.08 15:25:27
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삼성전자·ASML 반도체 동맹 강화…12인치 마스크 공동 개발
삼성전자는 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML이 주도하는 '대형 마스크 컨소시엄(Large Size Mask Consortium)'에 참여해 차세대 12인치 포토마스크 공동 개발에 나선다고 8일 밝혔다.

대형 마스크 컨소시엄은 기존 6인치 포토마스크를 12인치로 전환하기 위해 구성된 글로벌 협의체다. 포토마스크는 웨이퍼에 회로 패턴을 새기는 필수 도구로, 12인치로 확대할 경우 나누어 새기고 이를 연결하는 작업(스티칭) 제약을 해소해 팹 생산성을 높이고 칩 제조 비용을 낮출 수 있다. 특히 첨단 반도체 제조 시 차세대 노광 장비인 High NA EUV의 성능을 극대화할 수 있다.

아울러 삼성전자는 ASML과 협력을 강화해 2028년 업계 최초로 첨단 D램 제조 공정에 High NA EUV를 도입한다는 목표를 밝혔다. 양사는 정밀한 패터닝을 통해 D램 미세화 로드맵을 연장하고 공정 단순화와 생산성 제고를 추진할 계획이다.

전영현 삼성전자 부회장은 "ASML과의 협력을 강화해 'Next AI'를 위한 기술 기반을 마련해 나갈 것"이라고 말했다.

박혜연 기자 phy@datanews.co.kr

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